Tantalum
-
Tantalum Sputtering Target – Disc
Tantalum sputtering ເປົ້າຫມາຍແມ່ນຖືກນໍາໃຊ້ຕົ້ນຕໍໃນອຸດສາຫະກໍາ semiconductor ແລະອຸດສາຫະກໍາການເຄືອບ optical.ພວກເຮົາຜະລິດສະເພາະຕ່າງໆຂອງເປົ້າຫມາຍ sputtering tantalum ຕາມຄໍາຮ້ອງສະຫມັກຂອງລູກຄ້າຈາກອຸດສາຫະກໍາ semiconductor ແລະອຸດສາຫະກໍາ optical ໂດຍຜ່ານວິທີການຫລອມ EB furnace ສູນຍາກາດ.ໂດຍ wary ຂອງຂະບວນການມ້ວນເປັນເອກະລັກ, ໂດຍຜ່ານການປິ່ນປົວທີ່ສັບສົນແລະອຸນຫະພູມ annealing ທີ່ຖືກຕ້ອງແລະເວລາ, ພວກເຮົາຜະລິດຂະຫນາດທີ່ແຕກຕ່າງກັນຂອງເປົ້າຫມາຍ sputtering tantalum ເຊັ່ນ: ເປົ້າຫມາຍແຜ່ນ, ເປົ້າຫມາຍມຸມສາກແລະເປົ້າຫມາຍ rotary.ຍິ່ງໄປກວ່ານັ້ນ, ພວກເຮົາຮັບປະກັນຄວາມບໍລິສຸດ tantalum ແມ່ນລະຫວ່າງ 99.95% ຫາ 99.99% ຫຼືສູງກວ່າ;ຂະຫນາດເມັດພືດແມ່ນຂ້າງລຸ່ມນີ້ 100um, flatness ແມ່ນຂ້າງລຸ່ມນີ້ 0.2mm ແລະຫນ້າດິນ
-
ຄວາມບໍລິສຸດຂອງສາຍ Tantalum 99.95% (3N5)
Tantalum ແມ່ນໂລຫະຫນັກແຂງ, ductile, ເຊິ່ງທາງເຄມີແມ່ນຄ້າຍຄືກັນກັບ niobium.ເຊັ່ນດຽວກັນນີ້, ມັນໄດ້ຢ່າງງ່າຍດາຍປະກອບເປັນຊັ້ນ oxide ປ້ອງກັນ, ເຊິ່ງເຮັດໃຫ້ມັນທົນທານຕໍ່ corrosion ຫຼາຍ.ສີຂອງມັນແມ່ນສີຂີ້ເຖົ່າເຫຼັກທີ່ມີການສໍາພັດເລັກນ້ອຍຂອງສີຟ້າແລະສີມ່ວງ.tantalum ສ່ວນຫຼາຍແມ່ນໃຊ້ສໍາລັບຕົວເກັບປະຈຸຂະຫນາດນ້ອຍທີ່ມີຄວາມຈຸສູງ, ເຊັ່ນໃນໂທລະສັບມືຖື.ເນື່ອງຈາກວ່າມັນບໍ່ມີສານພິດແລະເຂົ້າກັນໄດ້ດີກັບຮ່າງກາຍ, ມັນຖືກນໍາໃຊ້ໃນຢາສໍາລັບຂາທຽມແລະເຄື່ອງມື.Tantalum ແມ່ນອົງປະກອບທີ່ມີຄວາມຫມັ້ນຄົງທີ່ຫາຍາກທີ່ສຸດໃນຈັກກະວານ, ຢ່າງໃດກໍຕາມ, ໂລກມີເງິນຝາກຂະຫນາດໃຫຍ່.Tantalum carbide (TaC) ແລະ tantalum hafnium carbide (Ta4HfC5) ແມ່ນແຂງຫຼາຍ ແລະທົນທານຕໍ່ກົນຈັກ.
-
ແຜ່ນ Tantalum (Ta)99.95%-99.99%
ແຜ່ນ Tantalum (Ta) ແມ່ນຜະລິດຈາກ tantalum ingots. ພວກເຮົາເປັນຜູ້ສະຫນອງທົ່ວໂລກຂອງ Tantalum (Ta) Sheets ແລະພວກເຮົາສາມາດສະຫນອງຜະລິດຕະພັນ tantalum ທີ່ກໍາຫນົດເອງ.ແຜ່ນ Tantalum (Ta) ແມ່ນຜະລິດໂດຍຜ່ານຂະບວນການເຮັດວຽກເຢັນ, ໂດຍຜ່ານການ forging, rolling, swaging, ແລະແຕ້ມເພື່ອໃຫ້ໄດ້ຂະຫນາດທີ່ຕ້ອງການ.
-
ທໍ່ Tantalum/ທໍ່ Tantalum Seamless/Ta Capillary
Tantalum ແມ່ນດີເລີດໃນການຕໍ່ຕ້ານ fochemical, ແລະທໍ່ໂລຫະ tantalum ແມ່ນອຸປະກອນທີ່ເຫມາະສົມສໍາລັບອຸປະກອນຂະບວນການເຄມີ.
Tantalum ສາມາດຜະລິດເປັນທໍ່ເຊື່ອມແລະທໍ່ seamless, ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນເອເລັກໂຕຣນິກ, semiconductor, ເຄມີ, ວິສະວະກໍາ, ການບິນ, ການບິນ, ການບິນ, ການແພດ, ອຸດສາຫະກໍາການທະຫານ.
-
ຄຸນະພາບສູງຂອງຈີນທີ່ຜະລິດ Tantalum Crucible
Tantalum crucible ຖືກນໍາໃຊ້ເປັນຖັງສໍາລັບໂລຫະທີ່ຫາຍາກ, ແຜ່ນໂຫຼດສໍາລັບ anodes ຂອງ tantalum, ແລະຕົວເກັບປະຈຸ electrolytic niobium sintered ໃນອຸນຫະພູມສູງ, ບັນຈຸທີ່ທົນທານຕໍ່ corrosion ໃນອຸດສາຫະກໍາເຄມີ, ແລະ crucibles evaporation, ແລະ liners.
-
Tantalum Rod (Ta) 99.95% ແລະ 99.99%
Tantalum ມີຄວາມຫນາແຫນ້ນ, ductile, ແຂງຫຼາຍ, fabricated ໄດ້ຢ່າງງ່າຍດາຍ, ແລະເປັນ conductive ຄວາມຮ້ອນແລະໄຟຟ້າສູງແລະມີຈຸດ melting ສູງສຸດທີສາມ 2996 ℃ແລະຈຸດຮ້ອນສູງ 5425 ℃.ມັນມີຄຸນລັກສະນະຂອງການຕໍ່ຕ້ານອຸນຫະພູມສູງ, ການຕໍ່ຕ້ານ corrosion ສູງ, ເຄື່ອງຈັກເຢັນແລະປະສິດທິພາບການເຊື່ອມໂລຫະທີ່ດີ.ດັ່ງນັ້ນ, tantalum ແລະໂລຫະປະສົມຂອງມັນຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນເອເລັກໂຕຣນິກ, semiconductor, ເຄມີ, ວິສະວະກໍາ, ການບິນ, ການບິນອະວະກາດ, ການແພດ, ອຸດສາຫະກໍາການທະຫານແລະອື່ນໆການນໍາໃຊ້ຂອງ tantalum ຈະໄດ້ຮັບການນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນອຸດສາຫະກໍາຫຼາຍຂື້ນກັບຄວາມກ້າວຫນ້າຂອງເຕັກໂນໂລຊີແລະນະວັດກໍາ.ມັນສາມາດພົບເຫັນຢູ່ໃນໂທລະສັບມືຖື, ແລັບທັອບ, ລະບົບເກມ, ເຄື່ອງເອເລັກໂທຣນິກລົດຍົນ, ຫຼອດໄຟ, ອົງປະກອບດາວທຽມ ແລະເຄື່ອງ MRI.
